设备介绍
	
	LCD触摸屏CVD高温炉是一款适用于CVD工艺的高温管式炉,采用双层壳体结构,并带有风冷系统,用于降低壳体表面温度;采用PID30段可编程序智能控温,移相触发;炉膛采用
氧化铝多晶体纤维材料,保温性能好,温场均衡;智能控温不需要人看守。这款CVD炉可用于
碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
 
	
	产品优势
	
	带风冷系统的双层壳体
	
	采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得壳体表面温度始终保持在安全范围内,内炉膛表面涂有进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度
	
	可设置30段升降温程序
	
	控温系统采用PID方式调节,可以设置30段升降温程序,控温精度可以达到±1℃。
	
	优良的动密封系统
	
	炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便,密封性强,不锈钢金属法兰,带阀门和相关接口,可抽真空充保护气体。
	
	技术参数
	
	设备名称 LCD触摸屏CVD高温炉
	
	设备型号 KJ-TCVD1100-S80CK1W
	
	高温炉壳体 采用双层壳体结构,并带有风冷系统,内炉膛表面涂有进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度
	
	加热元件 电阻丝
	
	最高温度 1200℃
	
	工作温度 ≤1100℃
	
	升温速率 1-10 ℃/min
	
	炉管材质和尺寸 石英管: 直径:80mm x 长度:1000 mm (其他尺寸可按客户需求定制)
	
	加热区长度 总加热区440mm
	
	控制方式 LCD液晶触屏
	
	热电偶 N型热电偶,3个校准热电偶测量的温度直接显示在炉体的液晶显示屏上
	
	控温系统 PID30段程序化控温
	
	控温精度 +/- 1 ℃
	
	真空密封系统 两个不锈钢密封法兰(上面已安装真空计和截止阀)
	
	高真空站结构 高真空站控制面板(基本用于分子泵速度和真空水平):
	
	
	涡轮泵和前级泵-干泵和石英管之间的所有连接、配件和阀门截面均符合KF-25连接标准。
	
	真空度 6.7*10-3PA(空置、室温条件下)
	
	混气系统 三个质量流量计
	
	三路质量量程
	
	含机械压力表、针阀、燃气通道、燃气混合阀、截止阀及配件等。
	
	彩色屏控制,阀门材质为不锈钢
	
	售后服务 质保一年,终身保修