该立式双温区CVD系统主要由:1200度双温区管式炉、3通道质量流量计供气系统、2L/S抽速真空泵及相关连接件组成;设备下方加装定向轮和万向轮,设备整体占地尺寸小并可灵活移动。该设备适用于CVD工艺,主要用于大学,研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
科佳公司研制开发了碳纳米管、纳米线连续生长专用设备,该设备由气流控制系统、注液系统、多级温控多区生长系统、水冷系统、碳纳米管等组成。碳纳米管生长炉最高工作温度为1400℃,可在0-1400℃之间连续调节,热场垂直分布,两点控温。设备顶部设有注液口和导流件。这种碳纳米管/薄膜CVD设备可以实现连续和不间断生长。
KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成。可适用于石墨烯生长等。
KJ-T1200CVD是一种管式炉,配备60mm直径的高纯石英炉管、真空泵和四通道质量流量计+一个浮子流量计气体流动系统。它可以混合1-4种气体用于CVD或扩散。
六通道高真空PECVD系统是一款由1200度管式炉,等离子射频电源,分子泵高真空,六通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统,加热腔体采用氧化铝纤维制品,其极低的热导率和比热容,保证了炉膛的快速升温和低蓄热,特别适合于科研单位的材料工艺研究。该等离子化学沉积系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、石墨烯材料等。也可可应用于纳米材料生长,石墨烯生成、金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜等各种薄膜等,可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏
该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。
KJ-MZ1700-12LX带搅拌功能升降式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热、焙烧、热处理用。
这款底部装料马弗炉工作温度≤1600℃。紧凑型炉腔设计,带升降托盘,炉底可升降。该高温箱式升降炉是研究实验室中进行材料退火和烧结的理想设备。
供企业实验室、科研单位作样品分析测定、氧化铝制品、粉末冶金、纳米材料的烧结。玻璃、晶体的精密退火、金属零件淬火、退火、回火等需快速升温工艺要求的热处理。
该款箱式马弗炉各项指标均达到了标准水平,主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解,应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成,也可用于其它材料的热处理工艺等。
科佳KJ-M1700-96LZ 1700℃大型智能一体马弗炉温控系统与炉体集成在一体,结构紧凑,外形美观大方,操作方便,使用稳定可靠;炉膛采用新型陶瓷纤维材料,升温快、保温好、轻质节能;产品采用智能控制,以微处理器作为控制中心,PID控制算法和自适应控制技术,能够智能控制预加热温度。液晶显示屏,全中文显示数据和进程。
KJ-MZ1700-12LX系列升降式箱式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热、焙烧、热处理用。
KJ-M1400-S1400℃升降式双推车钟罩炉适用于适用于金属材料的热处理工艺,电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成、淬火、回火。院校实验室、工矿企业实验室,供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和熔解等。
该设备可安装于支架上,与其它设备共同组成自动化生产线,亦可单独作为钟罩炉使用,适用于工矿企业对金属、陶瓷、高分子材料等进行加热、烧结、热处理等自动化工艺。
KJ-M1700-96LZ大型智能一体马弗炉各项指标均达到了标准水平,可进行快速灰化、缓慢灰化、挥发分、罗加指数、粘结指数等专用加热程序,性能更优越。广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质量检测之用。
KJ-M1700-8LZ箱式高温炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解,应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成,也可用于其它材料的热处理工艺等。
KJ-1200T-H40-L水热循环测试炉是我们科佳电炉根据用户需求定制的一款水热循环测试设备。测温显示采用8通道无纸记录仪,温度数据可记录,水温测试采用的是高精度热电阻温度传感器,误差不超过0.15℃,配有高精度电磁流量计,可随时检测到进水流速。
此箱式炉适用于煤炭、焦化产品、化工原料的焦炭灰分(快灰慢灰),供实验室、工矿企业、科研单位、院校作元素分析测定和一般小型钢件淬火、退火、回火等热处理时加热用,亦可用于工业生产行业烧结、加热、热处理。