设备介绍
	
	KJ-T1200大口径CVD管式炉是一种具有60mm直径石英管,
真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的可拆分管式炉。 它可以混合1-3种气体.该系列化学气相沉积系统用于CVD或扩散包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如
碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、
纳米材料制备、
电池材料制备等多研究领域。
 
	
	产品优势
	
	双层壳体上开启结构
	
	双层壳体上开启结构,取放炉管方便,装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内
	
	30段高精度可编程温控
	
	控温系统采用PID方式调节,30段高精度数字可编程温度控制器
	
	触屏操作简单快捷
	
	采用触屏操作系统,数据可存储可通过EXCEL输出
	
	技术参数
	
	型号 KJ-T1200-CVD
	
	显示 液晶显示屏
	
	第一部分 管式炉部分
	
	炉膛 分体式和上部可以打开
	
	最高工作温度 1100°C
	
	加热速率 建议:0~10℃/ min
	
	加热温区 500mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
	
	加热元件 钼电阻丝
	
	温度控制精度 ±1℃
	
	炉管尺寸 外径200mm *长度1200mm
	
	(其他尺寸可根据客户需求定制)
	
	温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器
	
	第二部分 混气系统
	
	流量计 LCD触摸屏
	
	更多规格可根据需求定制