一种选择性降解环丙沙星光催化剂的制备方法,属于材料制备及环境污染治理的技术领域。按照下述步骤进行:(1)ZnS
半导体材料的水热合成;(2)ZnS表面改性;(3)分子印迹聚合物光催化剂的制备;(4)将得到的固体粉末物质洗脱印迹聚合物中的模板分子。本发明的分子印迹聚合物光催化剂的光催化降解过程可以有效的实现对目标污染物选择性识别、吸附并催化降解的目的,提高了对目标物质的有效降解的效率,具有较强的选择性处理抗生素废水的优点。
声明:
“选择性降解环丙沙星光催化剂的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)