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自粘贴制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法与应用

887   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 03:39:33
本发明涉及一种自粘贴制光催化性能聚间苯二甲酰间苯二胺膜的方法与应用,制备方法包括:将聚间苯二甲酰间苯二胺(PMIA)配制得到铸膜液,之后在分散有ZnO‑Ag‑TiO2的溶液中进行凝胶浴,通过自粘贴法将光催化剂ZnO‑Ag‑TiO2负载在PMIA膜上,制得PMIA光催化膜;该膜可用于提高对印染废水中对有害物质六价铬催化还原为三价铬的能力。与现有技术相比,本发明将光催化剂ZnO‑Ag‑TiO2固定在PMIA铸膜表面,通过自粘贴法引入无机纳米粒子改性的PMIA膜,减少了催化剂的流失回收难等问题,也使得亲水性得到大幅增强的同时,并具有更好的光催化降解性能。
声明:
“自粘贴制备光催化性能PMIA混合基质膜的方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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