本发明提供一种电解铜箔阴极钛辊用新型抛光液及其使用方法,所述新型抛光液的配方如下:有机酸30‑80g/L;阴离子表面活性剂0.5‑1g/L;无机盐0.05‑0.1g/L;所述有机酸为柠檬酸或草酸,所述阴离子表面活性剂为磺酸盐或硫酸酯盐,所述无机盐为铬酸盐;本抛光液的使用方法为:将阴极钛辊表面机械抛磨后,放置于抛光液槽中,在室温下旋转浸泡至Ra在0.20μm左右停止浸泡。通过本发明的新型抛光液,可实现阴极辊的镜面抛光,保证阴极辊表面粗糙度、电流密度分布的均匀性,降低电解液对阴极辊的腐蚀作用,提升阴极钛辊的使用时间,提高铜箔生产效率,制备的铜箔可满足极薄
锂电铜箔的要求。
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