本发明属于过渡金属配合物的制备领域,涉及一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用。该含单阴离子配体过渡金属配合物的通式为:L(V=O)X2,其中,L为氮负离子配体,X选自卤素,该配合物的制备方法包括如下步骤:配体原料与三甲基氯
硅烷反应,得到含三甲基硅基取代的化合物;将得到的含三甲基硅基取代的化合物和等当量的VOX3反应,得到所述含单阴离子配体过渡金属配合物。本发明的优点如下:不需要使用昂贵且危险的烷基锂试剂,得到含氮负离子配体的过渡金属钒配合物,制备工艺路线简单(两步反应),反应条件温和,产率高,成本低。
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