本发明公开了一种微凹辊间隙雕刻工艺,属于锂电子隔膜生产技术领域。其包括以下步骤:将微凹辊的辊面划分为雕刻区和空白区,对雕刻区进行雕刻。本发明摒弃了现有的微凹辊网纹设计,提出以间隙雕刻的方式,根据所需涂布的隔膜进行设计网纹辊,针对性的解决特制化涂布的难点,让隔膜涂布不再受微凹辊满幅雕刻的网纹限制,其可涂布的涂布膜结构更加多元化。
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