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(NH4+)xMoS2插层化合物及其制备方法

778   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 23:38:48
本发明公开了一种(NH4+)xMoS2插层化合物，式中x值为0.2～3.0。其制备方法是首先利用正丁基锂对二硫化钼进行插层，得到锂插层二硫化钼，然后采用水剥层制备了二硫化钼悬浮液，并在氯化铵溶液中插层制备了(NH4+)xMoS2插层化合物，本产品可作为一种良好的固体润滑材料，也可与碱溶液共热得到单层二硫化钼。本发明解决了单层二硫化钼的储存问题，得到了稳定的(NH4+)xMoS2插层化合物，本发明的插层化合物是一种灰黑色粉末状固体，在机械、电子、航空航天、化工、材料等固体润滑领域有着重要的应用价值。
声明：
“(NH4+)xMoS2插层化合物及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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