本发明涉及直接沉淀制备掺杂三价阳离子的镍钴锰三元材料的方法,其特征在于原料中镍、钴、锰、锂、掺杂三价M离子的摩尔比x:y:z:k:m满足x:y:z:m=0.47~0.52:0.10~0.20:0.26~0.35:0.01~0.10或0.57~0.62:0.10~0.19:0.15~0.25:0.01~0.10或0.77~0.82:0.05~0.10:0.05~0.13:0.01~0.10,0.95≤k≤1.10,且x+y+z+m=1。将称取的镍、钴、锰、掺杂三价M离子及湿磨介质混合,加入氨水和锂的化合物,经过陈化、干燥、烧结等步骤制得掺杂三价阳离子的三元材料。
声明:
“直接沉淀制备掺杂三价阳离子的镍钴锰三元材料的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)