一种用于存储器硬盘的抛光组合物,该组合物至少包含以下组分(a)至(d):(a)以抛光组合物总量计的0.1-50%(重量)至少一种磨料,选自二氧化硅、
氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰,(b)以抛光组合物总量计的0.001-10%(重量)至少一种高碘酸(盐),选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂,(c)用来将所述抛光组合物的pH值调节至2-5的缓冲组分,(d)水。
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