本发明公开了一种低膨胀芝麻点釉,包括基料和添加剂,所述基料的原料组成为:锂辉石35~45wt%、透锂长石5~15wt%、苏州土5~8wt%、煅烧滑石10~15wt%、碳酸钡7~10wt%、碳酸锶3~6wt%、石英15~25wt%、方解石3~6wt%、骨灰1~5wt%;所述添加剂为芝麻点,其用量为基料的0.1~0.2wt%。本发明通过锂辉石和透锂长石的复合使用,解决了熔融温度范围窄的问题。本发明低膨胀芝麻点釉,坯釉结合性好、熔融范围宽、膨胀系数可控可调,能够很好地适应各种低膨胀陶瓷坯体的使用要求,有效提高了生产合格率。
声明:
“低膨胀芝麻点釉及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)