本实用新型公开了一种用于
磷酸铁锂基于CVD工艺的加工设备,涉及CVD工艺加工设备领域,针对现有的加工设备存在的密封性差,极易混入空气,影响产品质量,存在CVD气体泄漏风险,存在安全隐患,无法进行CVD生产的问题,现提出如下方案,其包括入口置换室,所述入口置换室侧壁安装有辊道窑体结构,所述辊道窑体结构包括升温箱、恒温箱、冷却箱、CVD气体打入管、冷却水喷头、辊道传送带和电加热器,所述辊道窑体结构远离入口置换室的一侧安装有出口置换室,所述辊道窑体结构侧壁安装有固定结构。本实用新型结构新颖,且密封效果好,密封持久性强,生产安全可靠,节约使用成本,完成CVD包覆工艺,避免CVD包覆死角,优化CVD包覆效果。
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