本发明属于
锂电池制备技术领域,具体提供一种基于磁控溅射原理的金属锂复合负极制备装置,包括装/取片腔和3个结构相同的独立溅射腔;每个独立溅射腔能够独立完成磁控溅射镀膜;装置还包括由随转架及与之匹配连接的移动滑轨构成的基片移动平台,所述随转架位于装/取片腔内中心位置,基片通过真空锁放入装/取片腔内、通过移动滑轨移动至随转架、在随转架上回转换位并通过移动滑轨移动至任一独立溅射腔内。本发明复合
负极材料中各个组分分别在独立溅射腔内完成,能够实现控制气氛、溅射率等参数的精准控制,即实现复合负极材料中各个组分成分比例的精准控制;制备得锂‑硅‑碳复合负极材料能够获得均匀的材料成分和强度,有利于实现工业化生产。
声明:
“基于磁控溅射原理的金属锂复合负极制备装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)