发明公开一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法,包括以膜材料及锂电极片基材为加工对象的涂布基材,采用狭缝式涂布方法,对涂布单元的涂布基材进行涂布,其是采用恒温镜面辊为涂布装置,于涂布单元内设有按涂布基材和涂液相匹配对应的温度控制装置;同时控制涂布单元的温度范围为20‑80℃。采用狭缝式涂布方法,对涂布单元的涂布基材进行涂布,提高了膜材料及锂电极片基材涂布的质量,具有较好的经济效益。
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