本发明涉及熔融沉积制备锂带的方法,属于锂带的制备技术领域。本发明解决的技术问题是提供熔融沉积制造锂带的方法。该方法具体步骤为:S0:设置沉积目标值,输入初始的控制参数值;S1:通过控制参数控制,进行熔融沉积;S2:对熔融沉积出的锂膜进行实时监测,得监测值;S3:将监测值与沉积目标值比对,如果不满足要求,则执行S4步骤,如果满足要求,则执行S5步骤;S4:根据锂膜厚度及控制参数进行逻辑运算,修正控制参数值后,依次进行S1~S3步骤;S5:继续熔融沉积,得到超薄锂带。本发明采用模型控制化的金属熔融沉积技术制备锂带,在铜箔上沉积出平整均匀,厚度可控的超薄锂带。该方法原料利用率高、设备成本较小、适用于自动化批量生产。
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