本发明公开了一种双层有序垂直介孔薄膜修饰的金属锂负极及其制备方法和应用。该双层有序垂直介孔薄膜修饰的金属锂负极,包括依次叠层设置的大孔单层有序垂直介孔薄膜、小孔单层有序垂直介孔薄膜和金属锂层。本发明通过在金属锂层表面依次设置小孔单层有序垂直介孔薄膜和大孔单层有序垂直介孔薄膜,能够对锂负极在充放电过程的锂离子输运行为进行调节,引导均匀的锂沉积,可以有效的抑制锂枝晶的生长,解决现有技术中金属锂沉积中锂枝晶生长的问题,从而使得金属锂负极在使用中的循环稳定性明显增加,安全性大大提高。
声明:
“双层有序垂直介孔薄膜修饰的金属锂负极及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)