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低成本、高产率SiC单晶的生长方法

763   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 20:23:49
本发明涉及一种低成本、高产率SiC单晶的生长方法，该方法采用双侧生长坩埚进行，所述的双侧生长坩埚包括坩埚体，坩埚体内设置有两个纵向间隔的多孔石墨片，多孔石墨片将坩埚体的内腔分割成左夹层、生长腔和右夹层，本发明的生长方法采用双侧生长坩埚进行，在坩埚的两个夹层放置SiC粉料，使SiC籽晶的两个面均存在一定浓度的SiC生长气相组分，有效避免了晶体高温生长时籽晶分解的现象，降低大直径SiC籽晶粘接不良导致的SiC单晶合格率低的问题，大大提高了SiC单晶的制备效率，降低了SiC单晶成本。制备的SiC单晶质量优于或相当于现有技术制备的SiC单晶质量，能够用于新能源汽车、光伏发电、5G通讯等领域。
声明：
“低成本、高产率SiC单晶的生长方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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