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新型的低沾染,免耗材的直拉炉设计

1042   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:46:48
本发明涉及直拉法(CZ法)晶体生长法。指晶体生长的一种方法，用来获取半导体(如硅、锗、砷化镓)、金属(钯、铂、银、金)、盐，或者是合成宝石的单晶。也称切氏或者柴氏法，由波兰科学家切克劳斯基于1916年研究金属的结晶速率时发明的。本发明旨在在炉室内取消或者减少使用的石墨和碳碳复合材料，以减少像对应的各种污染。使用陶瓷非金属材料来加工直拉炉的炉室，炉膛，隔热材料或者其他位于炉室内的内件。
声明：
“新型的低沾染,免耗材的直拉炉设计” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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