本发明提供水溶性氮化硼量子点的一步制备方法。以六方氮化硼与三方氮化硼为原材料,分散在碱性溶液中,放入超声波高温高压恒温反应釜中反应,一步制备羟基化氮化硼量子点;将产物置于去离子水中透析,然后用液氮冷冻,置于冷冻干燥机中干燥,得到干燥的羟基化氮化硼量子点成品。本发明所述方法氮化硼片层的羟基化使片层的剥离效率与裂解效率大大增加,二维片层的剥离、羟基化、裂解同时进行,具备制备简单、成本低、易于工业化批量生产的特点,制备的羟基化氮化硼量子点具有优异的水溶性,可广泛的应用于制备
复合材料、介电器件、激光材料、质子交换膜材料等领域。
声明:
“水溶性氮化硼量子点的一步制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)