本发明涉及一种均匀化氮化硼涂层的制备方法。给方法以三氯化硼(BCl3)和氨气(NH3)为反应气体,通入反应器中,先在混合区混合均匀,再在沉积反应区发生表面沉积,最后将所得样品进行高温热处理,经扫描隧道显微镜(SEM)、傅立叶红外(FT-IR)和X射线衍射(XRD)检测,制备出厚度均匀、成分单一、结晶度较高的氮化硼涂层。此方法可用于
复合材料中氮化硼界面的制备其它样品表面氮化硼涂层的制备,还可用于研究氮化硼气相沉积过程及机理的研究。该方法主要解决的是双组元化学气相沉积氮化硼过程中气体混合不均的问题,以提高氮化硼涂层的均匀度,更好地控制涂层厚度。
声明:
“均匀化氮化硼涂层的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)