本发明公开了属于无机
复合材料制备技术领域的一种采用三羟甲基类分子制备极易插层功能水滑石的方法。其制备步骤为:将可溶二价金属氯盐、可溶三价金属氯盐和三羟甲基类分子的混合溶液进行水热反应,所得沉淀分散到Na2CO3溶液中离子交换,离心洗涤,干燥,即得三羟甲基类分子修饰的水滑石;然后加入到功能阴离子溶液中,在无氮气保护下搅拌反应,最后离心洗涤,真空干燥,即得功能阴离子插层水滑石。通过将具有三脚支架结构的三羟甲基类分子引入到水滑石合成过程中,起到控制层板尺寸,降低层板晶格能,降低水滑石层间离子交换难度的作用。解决了多酸等功能阴离子插入水滑石层间难度大,需要氮气保护的问题。
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“采用三羟甲基类分子制备极易插层功能水滑石的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)