本发明涉及一种高硅取向低碳高硅硅钢薄板的制备方法。其技术方案是将基材为硅含量低于3.0wt%的低碳钢或低硅硅钢置于溅射室,在真空或保护性气氛下,采用溅射沉积法将不同靶材在基材两面交替或同时沉积,预制成硅铁合金膜或Fe/Si多层膜或Fe/Si超晶格多层膜的沉积层;再向溅射室通入N2和/或O2,采用溅射沉积法将Ti、Cr、Al或MgO靶材沉积在沉积层外表面,形成AlN、TiN、MgO或一层含Cr尖晶石型氧化物覆层;然后采用高能粒子注入法进行表面处理或扩散退火处理并进行轧制,最后将轧制的
复合材料进行再结晶退火处理。本发明制备周期短、扩散退火处理时间短,能形成表面碳、磷及氧含量极低的高硅取向硅钢薄板,沉积层的晶粒大小规则,具有取向。
声明:
“高硅取向硅钢薄板的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)