本发明公开一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料,属于屏蔽材料技术领域。该钨硼层状材料由钨或钨合金、渗硼层组成,其中渗硼层的厚度为38~45μm,硼以硼化物的形式存在于渗硼层中,钨合金为Ni、Cu、Nb、Co、Mo、Cr或C元素与钨元素组成的合金,其中钨质量百分比为85~99%。相比传统的钨及其合金材料,这种特殊的层状结构使钨硼
复合材料对X射线,γ射线和中子均具有较为显著的屏蔽效果,同时具有强度高、硬度高、导电性好、耐腐蚀性优良等特点。
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“具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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