本发明涉及微纳加工的技术领域,更具体地,涉及一种平面内纳米结构的精确可控制造方法,包括:提供一块薄膜基板,所述薄膜基板的上部设有纳米自支撑薄膜;在纳米自支撑薄膜上加工所需形状的纳米结构;将加工得到的纳米结构收缩至所需尺寸,制成纳米掩膜板;将纳米掩膜板放置于待沉积的基片上方,并在纳米掩膜板及基片上方沉积所需材料;去除纳米掩膜板,在基片上得到所需形状尺寸的纳米结构。本发明可以在纳米级单层或多层复合薄膜上加工出所需位置、形状、数量的纳米结构,适用范围广;可以将纳米结构准确收缩为所需尺寸,制成纳米掩膜板,沉积所需单层或多层
复合材料;可以实现特定尺寸、形状、数量、位置的纳米图案或纳米线的可控制造。
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