本发明公开了一种具有微纳米级拓扑结构的导电神经修复材料及其制备方法与应用,属于生物医用材料领域。该制备方法包括如下步骤:利用软光刻技术及熔融铸膜工艺制备具有微纳米级沟槽拓扑结构的PDMS基底;将聚乳酸‑羟基乙酸共聚物溶于有机溶剂中,再加入聚3,4‑乙撑二氧噻吩,溶剂蒸发后获得均匀分散的PLGA/PEDOT
复合材料;将所得复合材料均匀铺展在PDMS基底上,再进行加热熔融铸膜处理,冷却后将薄膜从PDMS基底上剥离下来,即得到具有微纳米级拓扑结构的导电神经修复材料。本发明的制备工艺简单,成本较低,所得薄膜结合了导电高分子和表面图案化的优势,可应用于外周神经组织工程支架的制备。
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“具有微纳米级拓扑结构的导电神经修复材料及其制备方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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