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超薄磁屏蔽片材料及其制备方法

650   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:16:24
本发明提供一种超薄磁屏蔽片材料及其制备方法。该超薄磁屏蔽片材料由铁氧体、粘接剂、添加剂、表面活性剂制成，厚度为0.001-0.08mm；具体制备步骤包括：配料、混料、一次球磨、压制成块、预烧结、二次球磨、制浆、喷涂、二次烧结，最终得到的超薄磁屏蔽片在13.56MHz下的复数磁导率为μ’＝70-200，μ”≤3。该方法制备工艺简单可靠，成材率高，节能环保，且磁片厚度可以根据性能需求自由控制；采用该方法制备的超薄磁片，具有优良的磁屏蔽性能，符合电磁复合材料轻薄化、功能化、节能环保趋势的发展要求，能够满足触控屏、电子印刷等进一步加工设计需求。
声明：
“超薄磁屏蔽片材料及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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