本发明涉及催化材料技术领域,提供了一种含氧空位的二氧化钼/铋光催化剂及其制备方法和应用,先制备MoO
2/钼网
复合材料,在MoO
2/钼网上生成Bi
0,再采用还原剂对MoO
2/Bi/钼网进行处理,还原剂不仅使Bi
0充分暴露在催化剂表面,同时引入了氧空位,能够防止Bi
0金属纳米颗粒表面形成氧化层导致其光催化活性降低,进而能够明显提升光催化活性;在保护气氛下进行氧化还原反应能够排除溶液中的O
2,还原剂与Mo
4+反应生成Mo
3+,使得与O的配位发生改变造成部分O发生逃逸进而形成OVs。实施例测试结果表明,本发明制备的含氧空位的二氧化钼/铋在2h内对甲苯的降解率达到了98%以上,具有优异的光催化性能。
声明:
“含氧空位的二氧化钼/铋光催化剂及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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