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太阳光谱吸收膜层设计方法

771   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:10:24
本发明是一种太阳光谱吸收膜层设计方法。本发明通过确定预选材料的介电函数；复合不同配比材料的介电函数，计算得到介电函数曲线，筛选满足要求的复合材料配比；构建膜层结构模型，确定膜层结构模型的物理数据；针对单一物理变量进行改变和优化，选取复合要求的或者最优的结构模型；根据筛选的复合材料配比和最优结构模型，选择、制定和优化膜层制备工艺。本发明对非磁性的高太阳光谱吸收率膜层的制备工艺进行设计与优化，可以显著缩小实验过程中部分参数的选取范围，减少错误实验所造成的人物力损耗，更加快速高效的确定最优工艺，从而提高膜层开发和生产的效率。
声明：
“太阳光谱吸收膜层设计方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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