本发明公开了阳离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石极其制备方法,该方法包括以下步骤:提纯钙基蒙脱石;对钙基蒙脱石进行水化处理:将提纯后的钙基蒙脱石制成水悬浮液,通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理;制备阳离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石材料:使用有机阳离子型表面活性剂和阴离子型表面活性剂,分别在超声分散作用和机械搅拌作用下,依次对蒙脱石进行插层。本发明的有机蒙脱石层间距高达5.2nm以上,热稳定性高,在有机相中分散均匀,剥离程度高,性能优异,可作为一种性能优异的填料应用到制备高分子纳米
复合材料领域。
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