本发明公开了一种基于微流控型双光子激光直写技术的超长三维纳米光纤制备系统及方法,属于光学微纳米结构制备技术领域。该系统包括三维打印装置、光学成像装置和控制器;将设计好的纳米光纤导入控制器中,通过光学成像装置对打印的纳米光纤进行实时监测,并且调整激光聚焦位置;三维打印装置将聚焦后的飞秒激光照射至空芯光纤中的光敏
复合材料,引发双光子聚合为纳米光纤,在泵的驱动下,纳米光纤随着光敏复合材料流动至显影腔体内,在显影液作用下,去除多余未聚合光敏复合材料,留下来制备好的纳米光纤。本发明发明采用微流控双光子直写技术,能够制备超长且具有复杂曲率的三维纳米光纤。
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“基于微流控型双光子激光直写技术的超长三维纳米光纤制备系统及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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