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薄膜的制备方法与QLED器件

679   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:52:15
本发明提供一种薄膜的制备方法与QLED器件，方法包括步骤：将单糖、钼源和硫源溶解于水中，经水热反应得到MoS2纳米片/多糖的二元复合前驱体，然后经焙烧处理得到MoS2纳米片/C的二元复合材料；将所述MoS2纳米片/C的二元复合材料和金源混合，在含有还原气体的惰性气氛下经焙烧处理得到Au纳米颗粒‑MoS2纳米片/C三元复合材料；将所述Au纳米颗粒‑MoS2纳米片/C三元复合材料溶于溶剂中，得到Au纳米颗粒‑MoS2纳米片/C三元复合材料溶液，在基板上沉积该溶液后，退火得到所述薄膜。采用本发明的薄膜作为QLED器件的空穴传输层，可以提高空器件中空穴传输效率；同时碳杂化结构可以提高载流子的迁移效率。
声明：
“薄膜的制备方法与QLED器件” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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