本发明提供一种等离子体刻蚀装置及其边缘环,边缘环采用
复合材料,复合材料包括第一材料及位于第一材料中的第二材料,以通过第二材料减少边缘环表面积累的电荷量;本发明通过宽禁带复合材料,可提高电荷迁移速率,减少边缘环表面积累的电荷量;通过高导电率复合材料,可及时引流电荷,以降低静电吸附作用力,减弱边缘环表面吸附作用,减少边缘环表面积累的电荷量;通过P型复合材料或N型复合材料,可在外电场的作用下,使得边缘环表面的电荷与副产物之间形成同种电荷的排斥,以减少边缘环表面积累的电荷量;及时排出的副产物可减少清洗反应腔的频率,提高产能;降低刻蚀工艺中产生的缺陷,提升良率。
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