本发明公开了一种含Si
3N
4和BN复合涂层的碳陶
复合材料坩埚及其制备方法,由碳陶坩埚基体依次沉积Si
3N
4涂层、BN涂层制得。本发明以碳陶坩埚为基体,先在其孔隙和表面(内表面和外表面)沉积Si
3N
4涂层,然后再沉积BN涂层制得,本发明仅需采用单一坩埚生产单晶硅,通过碳陶坩埚基体、Si
3N
4涂层和BN涂层三者的协同作用,极大的提升了坩埚的高温稳定性能和抗硅蚀能力,同时坩埚表面对硅的润湿性差,避免了生产单晶硅后的硅晶粘锅难以清理,既延长了坩埚的使用寿命,又减少了坩埚更换频次和提升了单晶硅生产效率。
声明:
“含Si3N4和BN复合涂层的碳陶复合材料坩埚及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)