本发明属于光催化降解技术领域,涉及夹层片状Bi2O3/UiO‑66‑NH2
复合材料及其制备和应用,制得方法为:先在超声处理好的Bi2O3和ZrCl4的DMF溶液中加入2‑氨基对苯二甲酸充分并持续搅拌,接着转移至含特氟龙内村的高压反应釜中,于150±10℃反应20~30h。复合材料中UiO‑66‑NH2一方面可以使Bi2O3的禁带宽度变窄,另一方面会扩大可将光谱吸收范围,提高可见光利用率,同时构建了复合材料表面异质结,改变了电子迁移路径,从而抑制电子‑空穴对的复合,大大提高了光催化降解效率。
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“夹层片状Bi2O3/UiO-66-NH2复合材料及其的制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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