本发明公开一种镍纳米颗粒及硅镍纳米物质共同修饰的硅纳米线
复合材料及制备方法,复合材料包括镍纳米颗粒、Si2Ni纳米物质及硅纳米线,镍纳米颗粒尺寸在10‑30nm,Si2Ni尺寸在20‑40nm,硅纳米线的直径为1‑500nm,长度为5‑200μm。复合材料中的硅纳米线是利用氧化物辅助合成得到的,是在没有金属催化剂的条件下,以硅及硅的氧化物作为原料,采用直接热蒸发的方法制得;再利用溶液化学还原法,氢氟酸刻蚀硅纳米线表面形成具有还原性的硅氢键,在190℃条件下与镍盐反应,得到镍纳米颗粒修饰的硅纳米线复合材料,其中还包含Si2Ni纳米物质在其表面生成。硅基材料在室温下非常稳定,通过氧化辅助还原法时所采用的载气流量、反应温度和时间来加以调控,且本发明工艺简单,重复性好。
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