本发明涉及聚合物/蒙脱石纳米
复合材料领域,公开了锚固插层改性蒙脱石的制备方法及其在聚合物基纳米复合材料中的应用。本发明采用多功能插层剂对蒙脱石进行功能化锚固插层改性,并且插层剂还是ATRP的反应引发剂,能够在蒙脱石片层间引发单体的活性聚合。在蒙脱石的片层间进行活性可控的ATRP,形成活性大分子,并在此基础上与其他聚合物采用常规的插层复合法制备三元聚合物结构可控活性大分子/蒙脱石纳米复合材料。这种改性的方法成功解决了蒙脱石很难在聚合物中全面而有效地均匀分散,导致聚合物/蒙脱石纳米复合材料的力学性能远远低于理论预期值的难题,为聚合物纳米复合材料的市场化应用领域的拓展提供坚实的技术支持。
声明:
“锚固插层改性蒙脱石的制备方法及其在聚合物基纳米复合材料中的应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)