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基膜

1271   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:11:01
本申请涉及用于制备基膜、层合体或偏振膜的方法。本申请可以提供一种可拉伸的基膜，其将伸长率和恢复率同时保持在适当的水平并确保耐水性，因此可以有效地用于制备例如偏振膜。本申请还可以提供使用所述基膜的层合体或用于使用所述基膜制备偏振膜的方法。所述基膜可以有效地用于制备具有优异功能(例如偏振性能)同时厚度为例如约10μm或更小、约8μm或更小、约7μm或更小、约6μm或更小、或者约5μm或更小的偏振膜。
声明：
“基膜” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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