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干法转印光刻胶制备微纳结构的方法

941   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:10:02
本发明揭示了一种干法转印光刻胶制备微纳结构的方法。本发明通过对衬底进行修饰以降低光刻胶与衬底的粘附力，然后在光刻胶上曝光并显影得到所需的结构，再利用黏贴层选择性的把光刻胶从衬底上剥离，把剥离下来的光刻胶转移释放到所需要的衬底上，然后镀金属并lift‑off处理，本发明突破了传统加工对衬底材料，形状和尺寸的限制，可实现任意衬底上微纳结构的制备。
声明：
“干法转印光刻胶制备微纳结构的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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