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膜图案及形成方法、电子设备和有源矩阵基板的制造方法

1020   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:10:02
本发明提供一种不需要对围堰实施表面处理(疏液化处理),由此简化了工序、提高了生产效率的膜图案的形成方法、和由此获得的膜图案以及器件和电光学装置等。该膜图案的形成方法将功能液(X1)配置在基板(P)上来形成膜图案。包括以下工序:在基板(P)上形成与膜图案的形成区域对应的围堰(B);在由围堰划分的区域(34)配置功能液(X1);和对功能液(X1)实施固化处理而形成膜图案。在形成围堰(B)的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接着对其进行曝光、显影,形成图案,然后通过烧结,形成在侧链上具有疏水基,并将硅氧烷结合作为骨架的材质的围堰,作为功能液(X1),使用水系分散介质或含有溶剂的液状体。
声明：
“膜图案及形成方法、电子设备和有源矩阵基板的制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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