本申请提供一种器件的制造方法,待处理衬底上可以形成透明导电膜层,透明导电膜层上形成有有机涂层,在栅线区域形成有贯穿有机涂层的刻蚀槽,形成覆盖有机涂层和刻蚀槽的导电材料层,利用激光刻蚀的方式,对有机涂层上的导电材料层进行刻蚀,以暴露有机涂层,利用有机溶剂溶解有机涂层,可以去除有机涂层和有机涂层上的导电材料层,形成位于栅线区域的导电栅线,在利用有机溶剂溶解有机涂层时,有机溶剂与未被导电材料层覆盖的有机涂层接触,脱模效率较高,提高栅线的制造效率。
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