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双位多靶离子束沉积装置

862   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:09:02
本实用新型公开一种双位多靶离子束沉积装置，包括机架、真空镀膜室、激光器、主离子源、辅离子源、旋转靶座和基片架，真空镀膜室装设于机架上，主离子源、旋转靶座和基片架均设于真空镀膜室内，基片架夹设有基片，主离子源和旋转靶座均为两个，一个旋转靶座上安装有四种不同的靶材，基片架的中心线与两旋转靶座的中心线相互重叠，两主离子源分设于基片架的两侧，主离子源的发射口对准旋转靶座，辅离子源设置于真空镀膜室下方，辅离子源的发射口对准基片，真空镀膜室设有石英窗，激光器发出的激光束穿过石英窗射入靶材上。本实用新型能同时镀两种材料，形成合金材料，能实现新型理想的功能材料，提高镀膜质量，提高沉积效率。
声明：
“双位多靶离子束沉积装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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