本发明公开了一种氧化锡多孔薄膜及其制备方 法,属于一种
功能材料。本发明需要解决的技术问题是提供一 种氧化锡多孔薄膜及其制备方法,用这种方法所制成的氧化锡 多孔薄膜,其孔隙率高,比表面积大。本发明的技术方案要点 是,氧化锡多孔薄膜,孔径为0.01-1000μm,孔隙率为20% -70%,比表面积为10m2/g- 150m2/g。氧化锡多孔薄膜的制备 方法,将锡源和有机酸置于反应器中在100-280℃在下搅拌溶 解得到锡的有机物前驱体,将上述前驱体放入马弗炉内在大于 300℃条件下控温烧结,制成氧化锡多孔薄膜。有机酸为柠檬 酸或者乌头酸。锡源为金属锡、二氯化锡、四氯化锡中的任一 种。本发明可用于气敏元件、
锂电池阴极材料、催化、分离吸 附、光学及环境污染治理等领域。
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