本发明涉及一种
石墨烯制备装置及应用该装置图案化生长石墨烯的方法,该装置包括:下工作台支架、加热器A、下工作台、夹具、上工作台、加热器B、上工作台调节机构、加热器C、进气法兰、排气法兰(10)、腔体外层、腔体保温层、腔体内层、进样门;利用该装置的石墨烯生长方法为:装置下方载片负载液体金属催化剂,装置上方工作台装载生长基底和图案化模板,催化剂载片、基底和生长环境独立控制加热温度,利用低压或常压化学气相沉积过程在基底上生长完整连续或图案化的石墨烯层;本装置和方法可以在多种非金属基底上低温生长图案化石墨烯薄膜,避免了转移、光刻、微加工等复杂器件制备工序,有利于简单石墨烯
功能材料和器件的批量生产。
声明:
“石墨烯制备装置及应用该装置图案化生长石墨烯的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)