本发明属于高分子
功能材料领域,公开了基于乳液聚合法制备凹坑结构光学增透膜的方法.包括:(1)以甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸、乙烯基封端的聚硅氧烷作为单体,制备乙烯基封端的聚硅氧烷‑聚丙烯酸酯乳液;(2)制备酸性硅溶胶;(3)将酸性硅溶胶浸涂在基材上,间隔5~30s后再浸涂乙烯基封端的聚硅氧烷‑聚丙烯酸酯乳液,再热处理固化成膜,最后煅烧去除聚合物乳胶粒子得到增透涂层。相较于普通的增透膜,这种有凹坑结构的表面形貌更特殊,是一种理想的光学材料。
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“基于乳液聚合法制备凹坑结构光学增透膜的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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