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提高晶界层电容器电阻的绝缘化剂及其使用方法

867   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:08:02
本发明涉及半导体、电子功能材料领域，公开了一种提高晶界层电容器电阻的绝缘化剂及其使用方法，所述绝缘化剂中包括Pb3O4、CuO、B2O3，并用新的氧化剂CBi2O5替代了Bi2O3，将CBi2O5、Pb3O4、CuO、B2O3按一定质量比混合制成新的绝缘化剂，并通过瓷片绝缘化的过程，使用绝缘化剂，得到电阻值更高的电容器瓷片，提高电容器的性能。
声明：
“提高晶界层电容器电阻的绝缘化剂及其使用方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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