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磁性纳米线阵列薄膜及其制备方法

1254   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:07:02
一种磁性纳米线阵列薄膜及其制备方法，属于电子功能材料技术领域。包括MgAl2O4单晶基片、Pb(Zr0.52Ti0.48)O3基体和NiFe2O4纳米线；NiFe2O4纳米线均匀分布在Pb(Zr0.52Ti0.48)O3基体中，形成沉积于MgAl2O4单晶基片（001）取向表面的磁性纳米线阵列薄膜。该薄膜采用PZT-NFO靶材和（001）取向MgAl2O4单晶基片，采用90度离轴磁控溅射工艺制得，具有铁磁共振线宽小、铁磁共振频率高、晶格失配小，可自组装外延生长的特点，是一种用于微波非互易性器件的重要材料。其制备方法容易实现，参数控制方便，操作简单，成本低。
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