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红外低发射率MXene薄膜及其制备方法

565   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:07:01
本发明涉及功能材料领域，尤其涉及一种用于红外隐身与热伪装的红外低发射率MXene薄膜及其制备方法。一种红外低发射率MXene薄膜的制备方法，包括如下步骤：将MXene溶液倒入放置有滤膜的抽滤瓶中，通过真空抽滤将MXene均匀地负载到滤膜表面并在滤膜表面形成MXene薄层；然后，将干燥后的MXene薄层与滤膜分离，即得MXene薄膜。本发明制备出的MXene薄膜在7～14um红外波段内的发射率为0.05～0.5；该制备方法反应平稳、简单易操作，工艺安全、方便、环保，所得产品均一性好；原材料来源广泛，可用于规模化使用，利于推广。
声明：
“红外低发射率MXene薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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