本发明公开了一种荧光磁性氧化
石墨烯基4‑氯酚分子印迹聚合物的制备及应用,属于
功能材料技术领域,该分子印迹聚合物是将氧化石墨烯与磁性材料复合,再在其表面修饰荧光量子点,最后通过分子印迹技术,制备出能够对4‑氯酚模板分子具有特异性识别能力的荧光磁性氧化石墨烯基4‑氯酚分子印迹聚合物,该分子印迹聚合物具有大的比表面积,识别位点多,传质速率快、选择吸附性能优良;该分子印迹聚合物在磁场作用下可以使聚合物在复杂基质中快速分离出来,并可应用于对4‑氯酚具有特异性的荧光检测;该分子印迹聚合物作为固相萃取剂,可以用来特异性富集和检测痕量4‑氯酚,该方法富集倍数高、检测限低,因此具有较高的萃取能力和效率。
声明:
“荧光磁性氧化石墨烯基4-氯酚分子印迹聚合物的制备和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)