本发明涉及
功能材料技术领域,具体涉及一种硫化法在金属箔片衬底上制备ZnS薄膜的方法。硫化法在金属箔片衬底上制备ZnS薄膜的方法,选用铝箔作为衬底材料,剪成小片,分别用丙酮、超声清洗,将铝箔衬底装入磁控溅射系统的样品位置;在磁控溅射系统真空室中装载纯度为99.99%的金属Zn靶;启动机械泵粗抽真空,抽高真空,通入Ar作为工作气体,工作气压为0.5Pa。溅射Zn薄膜后进行硫化处理,取1g硫粉和样品放入石英舟,再将石英舟推入管式加热炉中,硫化加热,然后停止加热,随炉冷却,直至管式炉温度降至室温后取出。本发明以铝箔作为衬底材料,用磁控溅射沉积Zn薄膜再进行硫化处理的两步法制备ZnS薄膜,薄膜表面致密,由圆形的晶粒组成。
声明:
“硫化法在金属箔片衬底上制备ZnS薄膜的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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